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一种光学玻璃蚀刻装置及方法

来源:微智科技网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN200810132179.0 (22)申请日 2008.07.22

(71)申请人 光捷国际股份有限公司

地址 省台北市

(10)申请公布号 CN101633563A

(43)申请公布日 2010.01.27

(72)发明人 严立巍;范国胜

(74)专利代理机构 北京华夏博通专利事务所

代理人 刘俊

(51)Int.CI

C03C15/00;

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

一种光学玻璃蚀刻装置及方法

(57)摘要

本发明公开了一种光学玻璃蚀刻装置及方

法,应用于将大尺寸玻璃予以蚀刻及/或薄化的情况下,使用具斜度的传动线方式而减少光学玻璃应力,并采取扫描式瀑布层流酸液涂布型式,自光学玻璃上方以前后及/或左右来回扫描的移动方式,均匀地释出蚀刻溶液,以均匀地蚀刻及/或薄化光学玻璃。利用本发明的光学玻璃蚀刻装置进行光学玻璃蚀刻方法时,由于光学玻璃呈现倾斜

状态,因而减少了于输送传动时玻璃本身的机械强度及物性,避免了采用直立式垂直输送传动时所产生的问题,且,由于对光学玻璃采取扫描式瀑布层流酸液涂布,因而可提升蚀刻速率、以及光学玻璃蚀刻均匀性。

法律状态

法律状态公告日

2010-01-27 2010-03-24 2011-11-23

法律状态信息

公开

实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态

公开

实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

权利要求说明书

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说明书

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