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专利名称：含有氨基烷基的硅氧烷及其制造方法专利类型：发明专利发明人：安藤裕司
申请号：CN201710522429.0申请日：20170630公开号：CN1075578A公开日：20180109
摘要：本发明以提供一种硅氧烷及其制造方法为目的，所述硅氧烷为含有氨基烷基的硅氧烷、特别是含有氨基烷基和聚氧亚烷基的硅氧烷，其中作为杂质含有的环状硅氧烷的量得到降低。另外，以提供如下制造方法为目的：得到的含有氨基烷基的硅氧烷、特别是含有氨基烷基和聚氧亚烷基的硅氧烷的结构不受，可以仅通过加成反应工序来制备，而且加成反应不受阻碍而不残留未反应的氢化甲硅烷基。特别是以提供在少的催化剂量下也可充分反应、不残留未反应的氢化甲硅烷基的制造方法为目的。
申请人：信越化学工业株式会社
地址：日本东京都千代田区大手町2丁目6番1号
国籍：JP
代理机构：中国专利代理()有限公司
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